Der Fachausschuss Maskentechnik befasst sich mit den weltweiten Masken- und Lithographietechnologien für die Halbleiterfertigung.
Seine Hauptaufgabe sieht der Ausschuss in der Ausrichtung einer jährlich stattfindenden internationalen Tagung, der „European Mask and Lithography Conference EMLC“.
Historie:
Am Anfang seiner Gründung erarbeitete der Fachausschuss VDI-Richtlinien für die Maskentechnik in der Halbleitertechnologie. Mit der weltweiten Verbreitung von US-SEMI Standards (in diesen Standard finden sich viele Informationen aus den VDI-Maskenrichtlinien wieder) hat sich der Fachausschuss anderen Aufgaben zugewandt.
Der Fachausschuss Maskentechnik sah seine zukünftigen Aufgaben in der schnellen Informationsweitergabe weltweiter neuen Technologien in der Maskenfertigung. Dies gelang im Rahmen einer Maskentagung mit dem Namen „Maskentechnik für Mikroelektronik-Bausteine“. Ab 1996 wurde die Tagung in englischer Sprache von der VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik (GMM) veranstaltet. Neuer Name der Tagung war “Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components”.
Die ehemaligen Fachausschuss-Mitglieder übernahmen fortan die Funktion des Programmausschusses der Tagung.
Die im Jahre 2000 veranstaltete Tagung trug den Namen „ EMC2000; 17th European Mask Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components“ und weist auf die 17. Fachtagung hin. Mittlerweile war die Anzahl der Mitglieder des internationalen technischen Programmkomitees auf 30 Personen angestiegen, die aus 10 Ländern kamen.
Da eine Maskentechnik immer mit einer dazugehörigen Lithografie verbunden ist, wurde der Name der Tagung im Jahr 2005 in „European Mask and Lithography Conference, EMLC“ umgewandelt.
