Die Fachgruppe Nassprozesse
adressiert das Arbeitsgebiet der nasschemischen Prozessierung von Siliziumwafern und anderen, halbleiterkompatiblen Substraten. Themenschwerpunkte sind zunächst klassische Prozesse wie Substratreinigung und Nassätzprozesse.
Spezielle Anwendungen, wie z.B. die Hydrophylisierung von Waferoberflächen für das Waferbonden ergänzen den Arbeitsinhalt. Nicht zuletzt ordnen sich auch Prozesse der galvanischen Schichtabscheidung in dieses Gebiet ein.
Die Fachgruppe Nassprozesse versteht sich als Plattform für den Austausch von Informationen und Erfahrungen, insbesondere zwischen den Anwendern aus der produzierenden Industrie, den Mitarbeitern aus Forschung und Entwicklung und den Anbietern technologischer Ausrüstungen und Materialien.
Speziell dazu finden zweimal im Jahr sogenannte Europäische Nutzertreffen statt. Der jeweilige Veranstaltungsort wandert dabei durch ganz Europa. Aufgrund der inhaltlichen Verwandtschaft mit den Prozessen der Oberflächenbearbeitung werden diese Nutzertreffen gemeinsam mit der Fachgruppe Planarisierung als zweitägige Veranstaltung durchgeführt.
Die Fachgruppe Nassprozesse wurde 2013 von Dr. Gerfried Zwicker (FG Planarisierung) und Dr. Knut Gottfried ins Leben gerufen und wird seitdem von Dr. Knut Gottfried und Frau M.Sc. Romy Junghans betreut.
Nähere Informationen zu aktuellen und vergangenen Treffen finden sich unter dem hinterlegten Link.
