Die Mitglieder der Fachgruppe kommen aus der Halbleiterindustrie, von Anlagenherstellern und von Forschungseinrichtungen.
Die Nutzergruppe Ionenimplantation wurde im Jahre 1987 von Hans Glawischnig (Siemens AG) und Heiner Ryssel (Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie, Erlangen und Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente, Universität Erlangen-Nürnberg) nach dem Vorbild der GSVIUG (Greater Silicon Valley Ion Implant User Group) gegründet.
- Die Veranstaltungen der Nutzergruppe Ionenimplantation werden gemeinsam von der ITG-Fachgruppe 8.1.1 und der GMM-Fachgruppe 1.2.2 organisiert.
- Aus der Nutzergruppe Ionenimplantation ging die Nutzergruppe Heißprozesse und RTP hervor. Seither werden die Treffen der beiden Gruppen an zwei aufeinander folgenden Tagen durchgeführt. Am Nachmittag des ersten Tages findet das Nutzertreffen Heißprozesse und RTP, am zweiten Tag das Nutzertreffen Ionenimplantation statt.
Nähere Informationen zu den aktuellen und vergangenen Treffen sind unter diesem Link zu finden.
